公 司 沿 革
   1984年 創立”拉奇企業有限公司
   1991年 因應國際外銷業務需求，設立”西肯興業有限公司
   1993年 自美國引進Parylene真空鍍膜設備進入台灣市場。 1999年 第一次擴充Parylene真空鍍膜設備。
   2000年 第二次擴充Parylene真空鍍膜設備，並引進直立式機型。2001年 第三次擴充Parylene真空鍍膜設備，並設立東莞工廠。
   2002年 第四次擴充Parylene真空鍍膜設備，並設立吳江工廠。
   2004年 第五次擴充Parylene真空鍍膜設備，增加3部直立式機型。同年，更本著回饋社會之企業文化與使命感，免費提供”國立中興大學”直立式機型1部，做為學術研究用途。
   2005年 第六次擴充Parylene真空鍍膜設備，增加2部直立式機型。同年，與”工業研究院材料所”共同合作開發未來高科技之”可撓曲式有機發光二極體/FOLED”之保護膜製程技術。截至目前為止，生產量與設備數規模為東南亞第一。
   真 空 鍍 膜 簡 介
   1.真空鍍膜簡介
   1.1.Parylene真空鍍膜技術（CVD.Chemical Vapor Deposition），早期起始於美國航太工業、通訊衛星及國防軍事用途，而後逐漸轉移推廣至民間商業用途，至今約已40年。
   1.2.及至今日，各種產品或零件已趨向精密微小化，因此，一般的表面被覆處理方式，如：Epoxy、Urethane、Silicone、ED等，已 無法符合此一嚴格要求。
   2.真空鍍膜原理
   Parylene真空鍍膜技術，是將原料置於真空中（10¯；³； Torr），直接汽化並裂解成奈米（Nano）分子流，再進入室溫下的鍍膜 室中，以氣相沈澱的方式，均勻滲入被鍍物體之內部隙縫與表面針孔，並逐漸聚合成完整、輕薄、均勻而又高密度之微米（Micro）膜層。因此，其良好的被覆特性與功能，完全不同且優異於一般沈浸式或噴霧式的表面處理方式。
   3.真空鍍膜流程
   粉末狀之鍍膜材料（Dimer）在經過汽化（150℃）與裂解（650℃）過程後，進入鍍膜室中，在常溫下進行氣相沉澱，形成Polymer膜。